電子基板用自動5槽式超音波洗浄装置

半導体・電子基板を洗浄する、バッチ洗浄用装置です。

詳細情報

ワークを5槽による超音波洗浄することで、表面に付着した微細なゴミ・汚れを除去します。また洗浄剤の組合せであらゆる条件に対応。

主な洗浄用途

フラックス洗浄：半導体・電子基板の製造工程で副産物として生成される、フラックス残渣を除去。

洗浄工程

1.洗浄剤洗浄(洗浄剤、浸漬超音波、揺動)～2.液切(エアブロー)～3.プレリンス(純水、超音波、揺動)～4.仕上リンス(純水、揺動)～5.熱風乾燥

使用洗浄剤例

準水系洗浄剤：パインアルファシリーズ(荒川化学工業)／クリーンスルーシリーズ(花王)

水溶性洗浄剤：VIGONシリーズ(ゼストロン)

フッ素系溶剤：エルノバシリーズ(トクヤマMETEL)／AMOLEAシリーズ(AGC)

追加オプション例

バスケット自動搬送装置付き(1ハンド)

LD/ULD コンベア式

オールステンレス仕様

水分濃度管理計、フラックス濃度管理計

プロセスデータ管理

納入事例

この製品に対するお問い合わせ

産業機械事業部