用途 | 電気・半導体・電子材料 |
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洗浄方法 | 超音波洗浄スプレー・シャワー洗浄 |
・特徴:フッ素系洗浄剤により、浸透力が高く、狭ギャップの洗浄に最適。溶剤系の特徴を生かし、少ない工程数で洗浄可能。それにより廃棄物を大幅に削減。また、障害となる溶剤の蒸発量を極限まで削減する仕様にした製品
・用途:フラックス洗浄(パワーデバイス、フリップチップ)
※半導体・電子基板製造工程向けの洗浄装置
・製品一例:『コピードラム洗浄機』、『電子基板用自動5槽式超音波洗浄装置』
①洗浄剤液中スプレー又は超音波洗浄:フラックス溶解用フッ素系溶剤-②洗浄剤液中スプレー:リンス用フッ素系溶剤→べーパー洗浄→乾燥
手動搬送式、自動搬送機設定可能 |
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蒸留再生、気体回収機構、フラックス分離装置 |
プロセスデータ管理 |
TEL:025-280-7112FAX:025-280-7145